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本发明公开了一种用于磁控溅射靶阴极的磁铁布置结构，包括圆盘状的极靴，极靴上方同轴上方设有环状的外磁轭，外磁轭与极靴之间均匀分布有若干个外磁铁；极靴的中心处设有内磁铁，内磁铁的上方设有内磁轭。本发明解决了现有技术中存在磁控溅射靶阴极结构磁场分...
该专利属于陕西理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过陕西理工大学授权不得商用。

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