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本发明提供一种TFT器件及其制备方法、阵列基板,该TFT器件中的有源层包括:源极掺杂区、漏极掺杂区、位于源极掺杂区和漏极掺杂区之间的沟道区;源极掺杂区与源极之间设置有第一金属氧化物层,漏极掺杂区与漏极之间设置有第二金属氧化物层,源极通过第一...该专利属于广州华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广州华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种TFT器件及其制备方法、阵列基板,该TFT器件中的有源层包括:源极掺杂区、漏极掺杂区、位于源极掺杂区和漏极掺杂区之间的沟道区;源极掺杂区与源极之间设置有第一金属氧化物层,漏极掺杂区与漏极之间设置有第二金属氧化物层,源极通过第一...