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本发明公开的基于大容量空间复用超颖表面的成像方法，涉及一种基于大容量空间复用超颖表面的单像素成像方法，属于微纳光学和单像素成像应用技术领域。本发明实现方法为：将随机分布纳米孔结构的超颖表面作为单像素成像系统中的掩膜，能够实现无偏振选择的快速...
该专利属于北京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京理工大学授权不得商用。

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