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本发明公开了一种深紫外LED外延片,包括在衬底上依次生长的氮化物缓冲层、氮化物过渡层、n型氮化物层、量子阱有源层、电子阻挡层、接触层;其中,电子阻挡层为BAlN阻挡层;量子阱有源层包括多个交替生长的AlGaN量子阱层/AlGaN量子垒层,及...该专利属于江苏第三代半导体研究院有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏第三代半导体研究院有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种深紫外LED外延片,包括在衬底上依次生长的氮化物缓冲层、氮化物过渡层、n型氮化物层、量子阱有源层、电子阻挡层、接触层;其中,电子阻挡层为BAlN阻挡层;量子阱有源层包括多个交替生长的AlGaN量子阱层/AlGaN量子垒层,及...