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本发明属于蚀刻装置领域，尤其是一种防污染便于注液的肖特基二极管制造蚀刻装置，针对现有的蚀刻装置在使用时，液体没有进行完全的收集容易造成污染，也不便于对需要蚀刻的二极管进行注液，会造成液体的浪费问题，现提出如下方案，其包括框体，所述框体上转动...
该专利属于江苏韦达半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏韦达半导体有限公司授权不得商用。

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