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本申请提供一种掩膜版及其制作方法，包括：掩膜框架，所述掩膜框架包括多个顺次连接的边框，多个所述边框围合形成开窗；第一掩膜条，其两端分别与多个所述边框中的两个相对的边框固定；第二掩膜条，其一端与多个所述边框中的一个固定，另一端与所述第一掩膜条...
该专利属于广州华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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