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本发明公开了一种刻蚀机基片冷却固定装置，包括底盘、基片和可移动固定脚；底盘包括夹持区和下沉冷却区，夹持区保证基片表面与底盘上部保持平行；下沉冷却区底部均匀分布着多个小孔，在刻蚀工作中冷却气体能够在底部封闭区域内通过小孔持续循环带走上部基片产...
该专利属于成都同力精密光电仪器制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都同力精密光电仪器制造有限公司授权不得商用。

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