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本公开涉及再生PECVD设备或DRY ETCH设备腔体中的构件的方法，该方法包括以下连续步骤：(a)对所述构件的表面进行喷砂处理；(b)用浓度为40
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该专利属于合肥微睿光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥微睿光电科技有限公司授权不得商用。

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