专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
西南技术物理研究所
>
无串扰铟镓砷盖革模式焦平面探测芯片结构及制作方法技术
>技术资料下载
下载无串扰铟镓砷盖革模式焦平面探测芯片结构及制作方法的技术资料
文档序号:33629175
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种无串扰铟镓砷盖革模式焦平面探测芯片结构及制作方法,制备好pn结的铟镓砷盖革模式焦平面光敏阵列芯片通过金金键合与具有微透镜阵列的支撑片键合,铟镓砷盖革模式焦平面芯片p型面为公共电极,n型面电极独立且与读出电路芯片通过铟柱倒装实...
该专利属于西南技术物理研究所所有,仅供学习研究参考,未经过西南技术物理研究所授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。