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红黄GaAs二极管的外延结构及其制备方法技术
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文档序号:33557619
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本发明提供一种红黄GaAs二极管的外延结构及其制备方法,该外延结构包括:衬底及在所述衬底上依次向上生长的布拉格反射镜、N型限制层、多量子阱层、P型限制层、P型覆盖层及电流扩展层;其中,所述布拉格反射镜为周期性结构,对所述布拉格反射镜进行Si...
该专利属于江西兆驰半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江西兆驰半导体有限公司授权不得商用。
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