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本发明涉及一种用于处理基板的设备，该设备包括：处理容器，该处理容器具有内部空间；支承单元，该支承单元在内部空间中支承和旋转基板；以及排放单元，该排放单元释放内部空间中的气流。排放单元包括气流引导管道，气流在相对于支承于支承单元上的基板的旋转...
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