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半导体元件及其制作方法技术
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文档序号:33546508
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本发明公开一种半导体元件及其制作方法,其中该半导体元件包括:半导体基材、电路结构以及环形突起部。半导体基材具有相对的一前表面和一后表面。电路结构位于前表面。环形突起部凸设于后表面上。部凸设于后表面上。部凸设于后表面上。
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该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
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