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具有传送室的处理装置和外延反应器制造方法及图纸
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下载具有传送室的处理装置和外延反应器的技术资料
文档序号:33522350
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用于外延反应器(1000)的处理装置(900)包括:用于处理基片的反应室(100);邻近反应室(100)的用于传送被放置在基片支撑设备上的基片的传送室(200);至少部分地邻近传送室(200)的被布置成容纳具有一个或更多个基片的基片支撑设备...
该专利属于洛佩诗公司所有,仅供学习研究参考,未经过洛佩诗公司授权不得商用。
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