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一种半导体结构的形成方法，包括：提供初始衬底；在所述初始衬底上形成第一图形化层；以所述第一图形化层对所述初始衬底图形化，形成衬底及位于所述衬底上的若干初始对准标记，所述初始对准标记沿第一方向延伸；在所述衬底和初始对准标记上形成第二图形化层；...
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