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本发明公开一种结合微流控技术的巨磁阻传感器及其制造方法与应用，自上而下包括上盖、光刻胶层和巨磁阻芯片底片，上盖设有流体入口和流体出口，光刻胶层包括第一光刻胶层和第二光刻胶层，第二光刻胶层设置在第一光刻胶层内部，且第一光刻胶层与第二光刻胶层之...
该专利属于合肥工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过合肥工业大学授权不得商用。

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