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本实用新型提供一种用于晶圆注入机构的升温静电吸盘，其用于超低温离子注入平台，所述用于晶圆注入机构的升温静电吸盘包括静电吸盘主体(311)，静电吸盘主体(311)为圆盘状或板状，用于晶圆注入机构的升温静电吸盘至少为四层以上结构；静电吸盘主体(...
该专利属于北京凯世通半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京凯世通半导体有限公司授权不得商用。

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