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本申请公开了一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备，用以提高蒸镀稳定性、提升蒸镀品质。本申请实施例提供的一种坩埚盖，坩埚盖包括：盖片，具有第一开口；喷嘴，在盖片的一侧与第一开口的边缘连接；螺旋结构，在第一开口之外的区域且在盖片背离喷嘴一侧与盖片连接...
该专利属于成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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