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采用P型衬底的半导体激光器及其制备方法技术
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文档序号:33466486
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本发明公开了一种采用P型衬底的半导体激光器,包括:P型衬底;在P型衬底上依次外延生长有P型缓冲层、P型传输层、P型限制层;在P型限制层上形成有P型波导层;在P型波导层上形成有有源层;在有源层上形成有N型波导层,N型波导层的厚度大于P型波导层...
该专利属于中国科学院半导体研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院半导体研究所授权不得商用。
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