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本实用新型涉及一种硅片氧化膜成型设备，包括氧化腔、隔板、加热单元和通氧管，所述氧化腔内设有传输轨道，所述传输轨道自所述氧化腔的输入端延伸至其输出端；至少一个所述隔板将所述氧化腔间隔形成至少两个氧化腔单元；所述加热单元设置在所述氧化腔单元内；...
该专利属于元能微电子科技南通有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过元能微电子科技南通有限公司授权不得商用。

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