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发明公开了一种连接线结构及其形成方法，该连接线结构包括钝化层、金属层和保护层，所述金属层设置在所述钝化层上，所述保护层设置在所述金属层上。在本发明中，可以采用单层布线简单设计，也可采用多层立体布线设计实现高速率传输；MEMS工艺允许连接线呈...
该专利属于武汉衷华脑机融合科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉衷华脑机融合科技发展有限公司授权不得商用。

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