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本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及尤其涉及一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备，本方法包括如下步骤：提供包括多个掩模图形的初始版图；基于第一拆分规则将多个掩模图形拆分为有冲突图形和无冲突图形...
该专利属于深圳晶源信息技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳晶源信息技术有限公司授权不得商用。

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