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本发明涉及一种电子束蒸发台坩埚组件的清理方法,属于半导体加工技术领域。操作步骤如下:(1)涂层制作:在使用坩埚上方放置档板,使用氮化硼喷剂在档板上方进行喷涂一层氮化硼,使氮化硼喷剂均匀的分布在坩埚侧壁上,喷涂完成后将档板取走;(2)坩埚使用...该专利属于山东浪潮华光光电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东浪潮华光光电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及一种电子束蒸发台坩埚组件的清理方法,属于半导体加工技术领域。操作步骤如下:(1)涂层制作:在使用坩埚上方放置档板,使用氮化硼喷剂在档板上方进行喷涂一层氮化硼,使氮化硼喷剂均匀的分布在坩埚侧壁上,喷涂完成后将档板取走;(2)坩埚使用...