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在混合取向晶体管中防止电荷损伤的保护制造技术
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文档序号:3341490
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一种包括CMOS结构的芯片,该CMOS结构具有设置在半导体衬底(50)的第一区域(24)中的体器件(20),该第一区域与在其下的衬底的体区域(18)相导通,第一区域(24)和体区域(20)具有第一晶向。SOI器件(10)设置在通过掩埋介电层...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
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