专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
西安电子科技大学
>
具有应力介质层的横向双扩散半导体场效应晶体管及其制作方法技术
>技术资料下载
下载具有应力介质层的横向双扩散半导体场效应晶体管及其制作方法的技术资料
文档序号:33401522
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种具有应力介质层的横向双扩散半导体场效应晶体管及其制作方法。该器件在衬底上半部分设置部分折叠状结构;折叠漂移区表面淀积应力介质层,应力介质层表面覆盖延伸栅电极,位于应力介质层上方的平面延伸栅电极与平面漏区消除全折叠结构拐角处的...
该专利属于西安电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安电子科技大学授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。