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本申请提供一种氧化镓衬底表面研磨形貌预测方法和装置，获取待测氧化镓衬底远离抛光垫的一面的均布载荷，将均布载荷输入有限元模型，获得待测氧化镓衬底与抛光垫之间的接触压力，根据接触压力、研磨粒子的浓度、待测氧化镓衬底的硬度、研磨粒子的直径、研磨系...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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