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本实用新型公开了一种链式碱抛系统，用于抛光制绒后的硅片，包括：用于在制绒后的硅片的正面形成水膜的喷淋单元；用于去除制绒后的硅片的背面及四周的磷硅玻璃的第一酸洗单元；用于清洗第一酸洗单元酸洗后的硅片的第一水洗单元；用于对第一水洗单元水洗后的硅...
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