下载激光脉冲增强型分子束外延系统的PLEES制备系统的技术资料

文档序号:33389035

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本发明公开了激光脉冲增强型分子束外延系统的PLEES制备系统,涉及纳米级薄膜技术领域;它的制备方法为:纯度为99.95%的Bi2Te3靶材和纯度为99.99%的Te靶材按1:1进行拼接形成混合靶材,并被置于外延室内;利用准分子激光器产生的激...
该专利属于哈尔滨理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过哈尔滨理工大学授权不得商用。

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