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本实用新型公开了一种极片擦拭装置，包括：机架；定位机构，设置于机架上，用于将极片沿竖直方向固定，定位机构具有显露极片槽口位置的让位口；基板，能够沿极片的宽度方向水平移动调节地设置于机架上；擦拭机构，对应让位口设置于基板上，擦拭机构设置有摩擦...
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