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本发明公开了一种检查版图中划片槽图形放置的方法,包括:步骤一、确定版图中单体的大小。步骤二、选定一个需要进行搜索的单体,将单体的搜索区域范围扩展到具有1/2曝光区域尺寸的区域。步骤三、检查所选定的单体是否为重复单体,包括:在版图中检索出会和...该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种检查版图中划片槽图形放置的方法,包括:步骤一、确定版图中单体的大小。步骤二、选定一个需要进行搜索的单体,将单体的搜索区域范围扩展到具有1/2曝光区域尺寸的区域。步骤三、检查所选定的单体是否为重复单体,包括:在版图中检索出会和...