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平面变栅距光栅扫描光刻干涉条纹线密度设计方法，涉及全息光栅制作的技术领域，本发明提出平面变栅距光栅扫描光刻的干涉条纹线密度设计方法，利用该方法可根据变栅距光栅刻槽密度目标函数，完成扫描光刻过程中干涉条纹线密度函数的设计，按此干涉条纹线密度设...
该专利属于吉林大学所有，仅供学习研究参考，未经过吉林大学授权不得商用。

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