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具有高阈值电压的SiCMOSFET及制造方法技术
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文档序号:33279984
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本发明公开了一种具有高阈值电压的SiC MOSFET,在衬底上表面依次外延有耐压外延层、电流扩展外延层;电流扩展外延层上表面间隔嵌有多个第一p阱区,每个第一p阱区中包围有一个第二p阱区;每个第三p阱区对应遮蔽一个第二p阱区下表面;每个第二p...
该专利属于西安理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过西安理工大学授权不得商用。
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