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一种等离子体处理装置,以及用于该等离子体处理装置的气流调节装置和气流调节方法,等离子体处理装置包含一连接进气装置和排气装置的真空反应腔,真空反应腔内设置一用于支撑基片的基座,基座上方为等离子体区域,环绕基座外围设置一具有气体通道的等离子体约...该专利属于中微半导体设备(上海)股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中微半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。
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一种等离子体处理装置,以及用于该等离子体处理装置的气流调节装置和气流调节方法,等离子体处理装置包含一连接进气装置和排气装置的真空反应腔,真空反应腔内设置一用于支撑基片的基座,基座上方为等离子体区域,环绕基座外围设置一具有气体通道的等离子体约...