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本发明公开了一种SOC开发流程，其特征是包括：开始阶段：时间线和架构准备；执行阶段：生成模块文件和开发UVM测试用例；回归阶段：开发模板和芯片的约束条件、网表生成和进行收敛要求判断；最后阶段：完成STA、LVS、DRC、LEC、时序、IR ...
该专利属于杭州芯耘光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州芯耘光电科技有限公司授权不得商用。

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