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提供了一种用于在电子束系统中的不同平面中操纵高级电荷控制器模块(560)的光束的系统和方法。该系统的一些实施例包括透镜系统，该透镜系统被配置为在切平面和矢状平面中操纵光束，使得束斑以高光能投射到晶片上。该系统的一些实施例包括透镜系统，该透镜...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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