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本发明涉及磁控溅射阴极靶材刻蚀速率的控制装置及控制方法，控制装置包括：靶、恒压电源以及设置于靶后方的磁场模块，磁场模块包括永磁铁和控制模块，永磁铁根据控制模块输入的控制参数的不同而改变位置，即改变磁铁距离靶的距离。本发明的阴极靶材刻蚀速率控...该专利属于沈阳添和毅科技有限责任公司泰山科学技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳添和毅科技有限责任公司泰山科学技术研究院授权不得商用。