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本发明涉及一种薄膜制造设备，包含：腔室，具有衬底的内部处理空间；衬底支撑件单元，连接到腔室以支撑腔室中的衬底；热源单元，连接到腔室且与衬底支撑件单元相对安置；等离子产生单元，连接到腔室的一侧以在衬底支撑件单元与热源单元之间供应自由基；以及挡...
该专利属于AP系统股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。

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