薄膜制造设备制造技术

本发明专利技术涉及一种薄膜制造设备，包含：腔室，具有衬底的内部处理空间；衬底支撑件单元，连接到腔室以支撑腔室中的衬底；热源单元，连接到腔室且与衬底支撑件单元相对安置；等离子产生单元，连接到腔室的一侧以在衬底支撑件单元与热源单元之间供应自由基；以及挡板，连接到腔室且其中包含自由基的移动信道和与移动信道连通的多个第一排出孔，所述多个第一排出孔形成于其顶表面中。薄膜制造设备可改良形成于衬底上的薄膜的均一性。衬底上的薄膜的均一性。衬底上的薄膜的均一性。

【技术实现步骤摘要】
薄膜制造设备


[0001]本公开涉及一种薄膜制造设备，且更确切地说，涉及一种能够改良薄膜的均一性的薄膜制造设备。

技术介绍

[0002]近年来，快速热处理(rapid thermal processing；RTP)方法广泛用作用于热处理衬底的方法。
[0003]RTP方法通过用从例如钨灯的热源发射的辐射光照射衬底来热处理衬底。与使用炉的典型衬底热处理方法相比，这一RTP方法可快速加热或冷却衬底且易于控制压力条件或温度范围的调整以改良衬底的热处理质量。
[0004]使用RTP方法的薄膜制造设备通常包含：腔室，提供空间用于处理衬底；衬底支撑件，用于支撑腔室中的衬底；热源，用于用辐射光照射衬底；以及等离子产生器，用于激活处理气体且将处理气体供应到腔室中。在此，热源和衬底支撑件分别安装于腔室的上部部分和下部部分上，且腔室具有在衬底与热源之间具有较短距离且在水平方向上具有长且宽的长度以有效地加热衬底的处理空间。由于等离子产生器难以安装于腔室中，所以当制造薄膜时，通过使用等离子产生器在腔室外部产生自由基且接着经由腔室的侧壁供应到腔室中。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜制造设备，包括：腔室，具有衬底的内部处理空间；衬底支撑件单元，连接到所述腔室以支撑所述腔室中的所述衬底；热源单元，连接到所述腔室且与所述衬底支撑件单元相对安置；等离子产生单元，连接到所述腔室的一侧以在所述衬底支撑件单元与所述热源单元之间供应自由基；以及挡板，连接到所述腔室且其中包括所述自由基的移动通道和与所述移动通道连通的多个第一排出孔，所述多个第一排出孔形成于其顶表面中。2.根据权利要求1所述的薄膜制造设备，其中所述腔室提供的所述处理空间具有的高度小于其宽度和厚度中的每一个，所述腔室包括形成于所述腔室的一侧处以将所述自由基注入到所述处理空间中的注入孔，且所述挡板安置于所述腔室的另一侧处以在一个方向上延伸。3.根据权利要求2所述的薄膜制造设备，其中所述衬底支撑件单元包括能够旋转且安装于所述腔室中的衬底支撑件，且所述挡板连接到所述腔室，使得所述挡板的顶表面安置于低于安放于所述衬底支撑件上的所述衬底的顶表面的位置处。4.根据权利要求3所述的薄膜制造设备，其中所述多个第一排出孔在水平方向上彼此间隔开，且所述多个第一排出孔的部分在竖直方向上形成于不同高度处。5.根据权利要求3所述的薄膜制造设备，其中所述挡板连接到所述腔室以在水平方向上延伸，且所述挡板的所述顶表面包括形成于所述挡板的两侧处且在所述腔室的外部方向上向下倾斜的倾斜部分，和形成于所述倾斜部分之间的水平部分。6.根据权利要求5所述的薄膜制造设备，其中所述倾斜部分相对于所述水平部分对称。7.根据权利要求6所述的薄膜制造设备，其中所述多个第一排出孔包括形成于所述倾斜部分中的至少一个外部排出孔和形成于所述水平部分中的至少一个内部排出孔。8.根据权利要求7所述的薄膜制造设备，其中所述至少一个内部排出孔具有的直径小于所述至少一个外部排出孔的直径。9.根据权利要求7所述的薄膜制造设备，其中所述至少一个内部排出孔在所述挡板的延伸方向上或与所述挡板的所述延伸方向水平地交叉的方向上延...

【专利技术属性】
技术研发人员：李昞日，金昌敎，权昶珉，兪承沅，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：