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本实用新型提供了一种高功率器件硅片扩散用磷片生产装置，包括炉体，炉体的一端呈敞开式，炉体上连通有出气管，所述炉体内固定有靠近炉体敞开处的固定壳，所述固定壳上开设有一组排气口；所述炉体远离固定壳的一端设有储气壳，所述储气壳上连通有贯穿炉体的排...
该专利属于成都锦沪新材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都锦沪新材料有限公司授权不得商用。

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