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半导体器件及半导体激光器制造技术
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文档序号:3316121
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本发明涉及抑制Zn从掺Zn的P型Ⅲ-V族化合物半导体层向与其邻接的有源层中扩散的半导体器件及半导体激光器。为抑制Zn从与有源层相邻接的掺Zn的覆盖层向有源层扩散而在掺Zn覆盖层再添加Fe或过渡金属元素。...
该专利属于三菱电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱电机株式会社授权不得商用。
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