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本实用新型公开了一种ICP刻蚀上片装置，包括支座、转动支撑件和放置于所述转动支撑件上的刻蚀盘；所述转动支撑件可相对于所述支座转动地设置于所述支座上，且所述转动支撑件与所述支座同轴设置；所述转动支撑件与所述刻蚀盘可拆卸连接，用于使所述刻蚀盘与...
该专利属于福建兆元光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建兆元光电有限公司授权不得商用。

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