温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了图案化量子点发光层的制作方法、发光器件的制作方法，以改善现有技术在制作高分辨率有机电致发光显示器件时，存在牺牲层难于去除，且去除过程中容易损伤量子点发光层，致使量子点发光器件效率较低的问题。所述图案化量子点发光层的制作方法，包括...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。