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光半导体元件制造技术
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文档序号:3313622
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在将导入了应力的量子阱层作为活性层的半导体激光器或电场吸收型调制器中,因为能带结构,特别是无法独立地调整△Ec与△Ev,所以在激光器特性或调制特性的最佳化上产生了瓶颈。在n型InP晶片1上依次层叠n型InGaAlAs-GRIN-SCH层3、...
该专利属于株式会社日立制作所所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社日立制作所授权不得商用。
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