下载半导体激光器装置的技术资料

文档序号:3313597

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低反射膜从与激光器芯片接触的一侧开始依次由折射率为n1及膜厚为d1的第1介质膜、折射率为n2及膜厚为d2的第2介质膜、折射率为n3及膜厚为d3的第3介质膜、折射率为n4及膜厚为d4的第4介质膜形成,具体地,第1介质膜上使用折射率n1=1.6...
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