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本发明涉及一种用于改善浅沟槽隔离表面毛刺的方法，该方法具体是在第一隔离结构上刻蚀出浅沟槽，剥离第一隔离结构的一部分形成第二隔离结构。该方法还包括氧化所述第二隔离结构，以用于在所述第二隔离结构上形成氧化层。剥离所述氧化层。本发明方法中由于硅毛...
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