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本发明公开了一种晶圆清洗装置，包括：一支架；三个轴，平行安装在所述支架上，其中两个所述轴位于另一所述轴的两侧，并位于另一所述轴的上方；至少一个所述轴能够改变与其它两个所述轴中至少一个的间距；三个所述轴上均设有用于与晶圆相配合的限位槽。将晶圆...
该专利属于浙江光特科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江光特科技有限公司授权不得商用。

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