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本发明公开了一种氮化硅与P型多晶硅的等速蚀刻液，其主要成分包括磷酸、单硝基化合物、硝基稳定剂、表面活性剂和水组成，本发明通过控制工艺温度以及调整各组分的添加量可以实现氮化硅层与P型多晶硅层的蚀刻速率比值稳定在1.0
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