温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种形成二维图案的方法，其包含：在一基板上涂覆多个小球；利用所述小球于所述基板上形成一屏蔽；蚀刻所述基板；及自所述基板移除所述屏蔽。此外，本发明另涉及一种处理一基板表面之方法，其包含：在所述基板表面上涂覆多个小球；在所述小球之间沉...
该专利属于香港应用科技研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过香港应用科技研究院有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。