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本实用新型公开了一种用于集成电路的表面氧化处理装置，包括：输送装置，所述输送装置设置在底座的上端，且输送装置的表面安装有轴承座，并且轴承座的中间贯穿连接有转轴，而且转轴之间设置有放置框；氧化室，所述氧化室设置在输送装置的右端，且氧化室内设置...
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