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本公开提供一种透射电镜样品的制备方法及装置。本公开的透射电镜样品的制备方法包括：制备预设尺寸的掩模板；将所述掩模板叠放于半导体样品表面的第一区域；利用聚焦离子束切削减薄所述半导体样品表面的第二区域，所述第二区域与所述第一区域相邻，以获得具有...
该专利属于真芯（北京）半导体有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过真芯（北京）半导体有限责任公司授权不得商用。

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