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本发明涉及一种半导体加工设备及其反应腔室、工艺管路穿腔模块，该半导体工艺管路穿腔模块包括模块本体及温控系统，模块本体设置有汽化通道；温控系统包括温度调节装置以及测控装置，温度调节装置设置于模块本体，测控装置设置于模块本体且测控装置与温度调节...
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